Evolve 半导体密封环

派克的Evolve密封技术为用户提供了无与伦比的等离子抵抗能力和非凡的密封清洁度，用于静态和准动态密封应用，代替标准O形圈。 通过使用PTFE作为等离子屏障，这种复合PTFE-FFKM真空密封在半导体制造设备中具有突出的性能，显著减少泄漏和由于等离子体攻击导致的密封污染，将密封正常运行时间延长2至10倍。这代表了相比传统O形圈密封解决方案的重大进步。与传统密封不同，Evolve密封能防止由于密封失败引起的意外停机，使制造厂能够根据机械磨损而非不可预测的密封劣化，有计划地安排预防性维护。 除了其优越的材料属性外，Evolve密封还设计考虑到用户的需求。它具有集成的加强筋或突起，以便于更容易、直接地安装到现有密封沟槽中，适合于燕尾槽、半燕尾槽和矩形槽。此外，它还可以根据客户要求为定制的沟槽配置进行工程设计，适用于静态和准静态应用，包括： • 真空室盖密封 • 排气阀 • ISO阀密封 • 晶圆台密封 • 缝隙阀门密封 • 观察窗密封 • 气体进出口密封 • 气环和喷嘴密封 • 窗户密封 • 接头密封 • 中心环 • 石英室密封 • 风箱密封 • KF定心环 联系我们的应用工程专家，讨论Evolve密封技术如何提高操作效率。